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Halbleiter-Ionenimplantation

Halbleiter-Ionenimplantation

Beschreibung
Ionenimplantation, ähnlich dem Beschichtungsverfahren, ist eine hochtechnologische Vorgehensweise zum Modifizieren von Oberflächeneigenschaften von Materialien. Dies geschieht jedoch nicht durch das Auftragen einer Schicht auf der Oberfläche. Ionenimplantation ist ursprünglich für Halbleiteranwendungen entwickelt worden und verwendet hochenergetische Ionenstrahlen (positiv geladene Atome), um die Oberflächenstruktur und Chemie der Materialien bei niedriger Temperatur zu ändern. Allerdings beeinträchtigt ein solches Verfahren nicht die Bauteilabmessungen oder Schüttguteigenschaften.

Anwendung
1. Durch hohe Wärmeleitfähigkeit, Materialfestigkeit, Korrosionsbeständigkeit und absolute Reinheit, funktionieren unsere Wolframlegierungen und Molybdänlegierungen gut, so dass die Ionen effizient und frei von Verunreinigungen erzeugt werden.
2. Bei der Ionenimplantation werden Wolframlegierungen und Molybdänlegierungen häufig für Lichtbogenkammern, Leuchtdrähte, Kathoden und andere Ersatzteile benutzt.

Prinzip
Der Ionenimplantationsprozess wird oft in einer Vakuumkammer mit niedrigem Druck (10-4 bis 10-5 Torr) durchgeführt. Eine große Anzahl von Ionen (in der Regel 1016 bis 1017 ions/cm2) bombardieren und durchdringen eine Oberfläche und interagieren mit den Substratatomen unmittelbar unter der Oberfläche. Die Wechselwirkung der energetischen Ionen mit dem Material modifiziert die Oberfläche, in gibt ihr andere Eigenschaften als dem Rest des Materials.

2008 gegründet, Zhuzhou Tongyi Industry Co., Ltd. ist ein professioneller Hersteller und Lieferant von Wolfram-, Molybdän-, Tantal- und Niobprodukten in China. Nachdem unsere Produkte, wie zB. Wolframlegierungen und Molybdänlegierungen, die  ISO9001-2008-Zertifizierung gemäß internationaler Qualitätsmanagementnorm bestanden haben, werde sie in die USA, Südkorea, Russland, Japan, Deutschland, Frankreich, Brasilien, der Ukraine, Italien und anderen internationalen Märkten exportiert.

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